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国产光刻机即将试运行!ASML没料到上海微电子默默努力

时间: 2024-06-24 12:27:16 作者: 米乐游戏怎么官方注册

  光刻机巨头ASML之前并不知名,即使做出了领先的光刻机,还超过了曾经的光刻机巨头日本尼康和佳能。因为光刻机属于半导体产业链上游,主要面向晶圆制造厂。

  如果不是被美方限制给中企出货,恐怕也不会这么受到关注。相比ASML,我国上海微电子的存在感更低了。不过有消息传来,ASML没料到,国产光刻机即将试运行!

  芯片起源于美国,光刻机也不例外,美企GCA最早推出了光刻机,上世纪80年代以前光刻机市场是美系的天下,尼康一直在为美企GCA提供光刻机配套的光学镜头。

  尼康从中积累了一定的光刻机制作技术,随着日本半导体行业的崛起,尼康和佳能都成了光刻机巨头,上世纪80年代到本世纪初两家称霸光刻机市场,GCA没落消失。

  不过,令尼康和佳能没想到的是,后来竟然被不太知名的荷兰的ASML给超越了。

  ASML于2004年研发出领先的ArF浸没式DUV光刻机,之后又推出了更领先的EUV光刻机,因此开始快速地发展成为新霸主,占据了全球光刻机市场80%左右的份额。

  ASML不仅独家供应高端EUV光刻机,连中端DUV光刻机都占据了大部分份额,其中ArFi浸没式出货量占96%,ArF干式光刻机占88%,而尼康的DUV 出货量非常少。

  佳能如今也只能出货KrF和i-Line等低端光刻机,水平其实还不如我国上海微电子。

  我国上海微电子虽然在光刻机方面差距较大,但也是全球能够生产前道光刻机的四大厂商之一,并且后道封测光刻机做得不错,国内占据80%份额,全球也占40%。

  差距主要在芯片制造用的前道光刻机,不过从官网能够准确的看出,上海微电子能够生产ArF、KrF和i-Line这些光刻机。上海微电子能够生产ArF,这方面已经比日本佳能强了。

  并且ArF最高制程达到90nm,通过两次曝光可做出45nm,三次曝光最高达22nm。

  虽然多层曝光技术如今已经相对成熟,但量产的可能性不大。因为曝光次数越多,芯片良率也就越低,成本也就越高。因此,正常情况下不会多次使用曝光,利用两次。

  尽管上海微电子已经能做出90nm的ArF光刻机,但却始终没传出企业使用并量产的消息。更多的是,只是产出了,但没有进入产线,这类消息一直不断传出。

  然而,近日有网友爆料,上海微电子的国产光刻机已进入产线,准备通电试运行。

  这次网友发布爆料消息时配了一张图,上边显示的是燕东科技的芯片制造设备采购列表,其中第7项是采购光刻机,供应商为上海微电子,采购时间是2021年11月。

  经查询,采购光刻机的公司为北京燕东微电子,是一家专业化的集成电路设计、制造、销售于一体的高科技企业。该公司有6英寸和8英寸产线英寸产线英寸产线nm制程,因此采购的光刻机就是90nm ArF光刻机。

  该产线的名称为《基于成套国产装备的特色工艺12吋集成电路生产线项目》,目标就是要打造中国首条国产自主可控的芯片生产线,所以采购的关键设备均是国产设备。

  项目1期的计划是2023年4月试生产,就是下个月。据网友信息数据显示,该产线没有逾期,准备通电试运行。燕东微也表示,12英寸产线正常推进,预计下个月通电生产。

  这样的话,也说明上海微电子光刻机也将通电试运行,也就是90nm的 ArF光刻机。

  具体情况如何,目前不能完全确定,还要看官方的正式消息。不过,从网友传出的消息和查询的情况去看,可以说明国产光刻机还在推进,上海微电子也在默默努力。

  因为光刻机从产出,到验收通过,再到产线运行,这需要很长的验证时间,不断解决问题,实现量产才算成功。在此之前正常情况下不会公开消息,只会默默努力推进!

  另外 ,上海微电子还在攻坚28nm浸没式光刻机,ASML恐怕没料到进展会这么快。

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